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具有金属缓冲层的CZT薄膜复合材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种具有金属缓冲层的CZT薄膜复合材料及其制备方法,所述碲锌镉薄膜采用衬底‑缓冲层‑半导体的三明治结构的组合形式,依次由衬底、金属缓冲层和碲锌镉三部分进行层叠组装结合的结构。本发明在传统碲锌镉薄膜生长过程中加入金属缓冲层。与传统生长方式相比,本发明所采用的金属缓冲层技术,得到的薄膜生长速度更快,薄膜晶粒尺寸更大,薄膜晶体质量更高。本发明制备的薄膜材料对于公共安全、军事、核工业、核医学、科学研究以及航空航天等领域安全监控、辐射防护方面具有重要意义和应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN110148627B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海大学;

    申请/专利号CN201910347454.9

  • 申请日2019-04-28

  • 分类号H01L29/24(20060101);H01L21/02(20060101);

  • 代理机构31205 上海上大专利事务所(普通合伙);

  • 代理人顾勇华

  • 地址 200444 上海市宝山区上大路99号

  • 入库时间 2022-08-23 12:05:03

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