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一种磁控溅射生长大面积、高度有序纳米颗粒的方法

摘要

磁控溅射生长大面积、高度有序纳米颗粒的方法,对衬底进行清洗处理;亲水处理;将聚甲基丙烯酸支撑的多孔氧化铝薄膜模板(PMMA/AAO)转移至丙酮溶液中去除超薄多孔氧化铝的PMMA支撑层;将去除了PMMA支撑层的超薄多孔氧化铝转移至过氧化氢溶液中室温浸泡2至10小时进行亲水处理;将亲水处理后的超薄多孔氧化铝转移至丙酮溶液中,在丙酮溶液中将超薄多孔氧化铝转移至经亲水处理的衬底上并室温风干;将覆盖有多孔氧化铝的衬底固定于平行对着磁控溅射溅射源的衬底托上;采用磁控溅射生长相应材料;蒸镀完金属后,采用聚酰亚胺高温胶带揭除或采用5~10%的NaOH去除多孔氧化铝,获得大面积、高度有序纳米颗粒。

著录项

  • 公开/公告号CN108374153B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京大学;

    申请/专利号CN201810042756.0

  • 申请日2018-01-17

  • 分类号C23C14/35(20060101);C23C14/16(20060101);C23C14/58(20060101);B82Y30/00(20110101);

  • 代理机构32249 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人陈建和

  • 地址 210093 江苏省南京市鼓楼区汉口路22号

  • 入库时间 2022-08-23 11:58:28

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