公开/公告号CN110288655B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-15
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳市同为数码科技股份有限公司;
申请/专利号CN201910579003.8
申请日2019-06-28
分类号G06T7/73(20170101);G06T7/13(20170101);G06T7/80(20170101);
代理机构44242 深圳市精英专利事务所;
代理人蒋学超
地址 518000 广东省深圳市南山区粤海街道深圳湾科技生态园9栋B4座23楼
入库时间 2022-08-23 11:57:55
机译: 一种用于生成用于仿真和/或测试集成电路布图的测试图案的方法
机译: 为场景三维的遮挡视图位置生成遮挡图像特性图的方法,计算机程序。一种与计算机程序一起使用的软件工具,用于对三维进行建模以生成遮挡的图像特性图和装置用于为场景Tridi Mencional遮挡的视图位置生成遮挡图像属性的图
机译: 位置位移图制作装置,图案检查系统以及位置位移图制作方法