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用于AlN单晶生长的复合籽晶及其制备方法

摘要

本发明提供一种用于AlN单晶生长的复合籽晶,包括AlN陶瓷基片、位于所述AlN陶瓷基片之上的石墨烯薄层以及位于所述石墨烯薄层之上的AlN薄膜。本发明还提供一种制备本发明的用于AlN单晶生长的复合籽晶的方法,包括如下步骤:(1)在AlN陶瓷基片上形成石墨烯薄层;(2)采用薄膜沉积技术在所述石墨烯薄层上制备AlN薄膜,得到AlN陶瓷/石墨烯/AlN薄膜复合籽晶。本发明制备的复合籽晶尺寸仅取决于使用者所制备或获得的AlN陶瓷基片的尺寸,可以满足任意尺寸籽晶的需求。同时,本发明制备的复合籽晶与AlN单晶物理性质相似、不引入外来杂质、不存在异质籽晶导致的晶格失配和热膨胀系数失配问题。

著录项

  • 公开/公告号CN111733456B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院物理研究所;

    申请/专利号CN201910227102.X

  • 发明设计人 郭丽伟;胡伟杰;王文军;陈小龙;

    申请日2019-03-25

  • 分类号C30B29/40(20060101);C30B23/02(20060101);C23C14/06(20060101);C23C16/26(20060101);C23C16/30(20060101);

  • 代理机构11280 北京泛华伟业知识产权代理有限公司;

  • 代理人郭广迅

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村南三街8号

  • 入库时间 2022-08-23 11:57:27

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