公开/公告号CN107958105B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-04
原文格式PDF
申请/专利权人 上海无线电设备研究所;
申请/专利号CN201711099387.0
申请日2017-11-09
分类号G06F30/15(20200101);G06F17/11(20060101);G06F111/10(20200101);
代理机构31249 上海信好专利代理事务所(普通合伙);
代理人朱成之
地址 200090 上海市杨浦区黎平路203号
入库时间 2022-08-23 11:54:49
机译: 用于减小金属表面反射截面的吸收涂层及其控制能力
机译: 一种修复受损的生长抑制剂等离子体的方法,可引发金属表面涂层的末端
机译: 利用大颗粒还原涂层的等离子体源和利用大颗粒还原涂层的等离子体源用于薄膜涂层的沉积和表面改性的方法