首页> 中国专利> 微型发光二极管结构及其制作方法与微型发光二极管装置

微型发光二极管结构及其制作方法与微型发光二极管装置

摘要

本发明提供一种微型发光二极管结构及其制作方法与微型发光二极管装置。微型发光二极管结构包括暂时基板、多个微型发光元件、多个光阻挡结构以及连接层。微型发光元件与光阻挡结构配置于暂时基板上且交替排列。每一光阻挡结构包括光遮层以及配置于光遮层上的光蔽层。微型发光元件与光阻挡结构通过连接层而固定于暂时基板上。光遮层的反射率大于连接层的反射率,且光遮层的杨氏模量大于连接层的杨氏模量。本发明的微型发光二极管结构可具有较佳的结构可靠度。

著录项

  • 公开/公告号CN111430523B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 錼创显示科技股份有限公司;

    申请/专利号CN202010419565.9

  • 发明设计人 李允立;

    申请日2020-05-18

  • 分类号H01L33/46(20100101);H01L33/48(20100101);H01L33/50(20100101);H01L33/58(20100101);H01L33/60(20100101);H01L33/62(20100101);H01L27/15(20060101);

  • 代理机构11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司;

  • 代理人张娜;刘芳

  • 地址 中国台湾新竹科学园区苗栗县竹南镇科中路13号8楼

  • 入库时间 2022-08-23 11:52:29

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号