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一种TA15合金表面耐磨Nb-N共渗层及其制备方法与应用

摘要

本发明公开一种TA15合金表面耐磨Nb‑N共渗层及其制备方法与应用。该Nb‑N共渗层采用双层辉光等离子冶金技术获得沉积在TA15合金表面的Nb‑N共渗层,所述Nb‑N共渗层包括由TA15合金表面向外的扩散层和沉积层,所述沉积层厚度为6‑8μm;所述扩散层为2‑3μm,所述扩散层中Nb‑N含量从扩散层的表面向TA15合金内部逐渐降低。上述TA15合金表面耐磨Nb‑N共渗层在汽车,航空等工业中应用。本发明制得的Nb‑N共渗层与TA15合金基体结合性能优越,整个涂层由外部的沉积层和内部的扩散层组成,实现了涂层与基体的冶金结合,能够在服役过程中有效保护TA15合金。

著录项

  • 公开/公告号CN109554667B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京航空航天大学;

    申请/专利号CN201811473601.9

  • 申请日2018-12-04

  • 分类号C23C14/16(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/34(20060101);C23C14/02(20060101);

  • 代理机构32200 南京经纬专利商标代理有限公司;

  • 代理人殷星

  • 地址 210016 江苏省南京市江宁区将军大道29号

  • 入库时间 2022-08-23 11:51:51

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