一种包括具有改进的抗剥离性的上层的物体的光刻设备

摘要

提供了一种光刻设备，包括：物体，所述物体包括：衬底和可选地在所述衬底上的下层；上层；和在所述上层与所述衬底之间的中间层，其中所述中间层与所述衬底或下层之间的结合强度大于所述中间层与所述上层之间的结合强度，并且所述中间层的杨氏模量和/或泊松比在所述上层的杨氏模量和/或泊松比的上下20％以内。