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公开/公告号CN109565921B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-18
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社富士;
申请/专利号CN201680088186.8
发明设计人 神藤高广;池户俊之;
申请日2016-08-11
分类号H05H1/24(20060101);H05H1/26(20060101);
代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人穆德骏;安翔
地址 日本爱知县知立市
入库时间 2022-08-23 11:49:14
机译: 等离子体产生装置喷嘴,等离子体产生装置,等离子体表面处理装置,等离子体产生方法和等离子体表面处理方法
机译: 等离子体发生器,表面处理装置,光源,等离子体的产生方法,表面的处理方法以及光照射方法
机译: 等离子体产生方法,其包括在不供应液体中的第一气体的情况下产生第一等离子体,并在第一气体中产生第二等离子体的方法,以及等离子体产生装置
机译:通过致密等离子体聚焦装置和脉冲激光照射在固体靶标中产生的冲击的作用
机译:在高通量线性等离子体装置中的D等离子体照射引起的碳化硅腐蚀和保留
机译:芯片上等离子体装置,用于稳定地照射带有低温大气压等离子体的培养基中培养的细胞
机译:通过致密的等离子体聚焦装置和脉冲激光照射在固体目标中产生的冲击作用
机译:圆柱形线阵列和X夹层等离子体的前体等离子体在1-1.7 MA电流下的辐射以及fs激光产生等离子体的显着光谱特征。
机译:收缩注意:亚甲基蓝光化学处理作为可靠的SARS-COV-2等离子体病毒用于Covid-19的血液安全和康复等离子体治疗的血液安全和康复等离子体治疗方法
机译:在1-MJ等离子体聚焦装置中产生和不产生气体的情况下产生的等离子体流的光谱研究
机译:大型等离子体中的激光等离子体不稳定性在1.06μm下照射,吸收,热电子产生,消融压力的波长缩放为1.06,0.53和0.35μm光