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一种用于高效、高分辨纳米图形的加工方法及设备

摘要

本发明公开了一种用于纳米间隙式近场光刻的表面等离子体透镜设计方法。根据表面等离激元在空气/光刻胶多层连续电介质表面的传播特性,设计了一种能够促使光束不仅在纳米间隙层实现超衍射极限聚束,并可在光刻胶层持续保持此聚束能力的同心交替半圆槽结构。通过在半圆槽中心位置设计具有超小尺寸的蝴蝶结结构,激发具备超强约束能力的局部表面等离激元,进一步加强了聚束光斑在纵向贯穿光刻胶层的刻蚀能力。同心交替半圆槽蝴蝶结复合结构能够与盘片表面制备的纳米结构金属膜层形成反射电磁波耦合,在蝴蝶结中心位置形成能量增强兼具尺寸较小的聚束光斑,有助于提高纳米图形加工的深宽比,从而实现了高效率、高分辨率、低成本的纳米加工。

著录项

  • 公开/公告号CN109541733B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国石油大学(华东);

    申请/专利号CN201811184737.8

  • 发明设计人 纪佳馨;徐鹏飞;吴宝贵;李静;

    申请日2018-10-11

  • 分类号G02B5/00(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11491 北京国坤专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人黄耀钧

  • 地址 266580 山东省东营市东营区北一路739号

  • 入库时间 2022-08-23 11:45:28

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