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具有耐氯和氟等离子体侵蚀性的涂覆的半导体加工构件及其复合氧化物涂层

摘要

提供一种半导体加工构件,包括主体和设置在主体上的等离子体喷涂涂层。涂层是ABO或ABCO复合氧化物固溶体组合物,其中A、B和C选自La、Zr、Ce、Gd、Y、Yb和Si,并且O是氧化物。该涂层赋予耐氯等离子体侵蚀性和耐氟等离子体侵蚀性,减少等离子体蚀刻期间的颗粒产生,并防止在半导体加工构件的湿清洁期间涂层开裂。

著录项

  • 公开/公告号CN108884546B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FM工业公司;

    申请/专利号CN201780018052.3

  • 发明设计人 M·纳伊姆;D·R·哈梅里克;

    申请日2017-03-24

  • 分类号C23C4/11(20160101);C23C4/134(20160101);

  • 代理机构31300 上海华诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人汤国华

  • 地址 美国加利福尼亚州费里蒙特市

  • 入库时间 2022-08-23 11:42:14

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