法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-12-21
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 6/122 授权公告日:20081029 终止日期:20151026 申请日:20061026
专利权的终止
2008-10-29
授权
授权
2007-07-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-05-09
公开
公开
机译: 用于喷墨印刷的光子晶体油墨组合物,通过喷墨印刷形成三维光子晶体的方法以及通过该方法制造的三维光子晶体器件
机译: 用于喷墨印刷的光子晶体油墨组合物,通过喷墨印刷形成三维光子晶体的方法以及由该方法制造的三维光子晶体器件
机译: 用于生产由硅制成的三维光子晶体的装置包括:生产具有内置缺陷的二维光子大光子大孔晶体,以及蚀刻层的微孔序列