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用于二维和/或三维物体的成像的装置

摘要

本发明涉及一种用于生成二维和/或三维物体的装置。该装置包含用于对入射光进行调制的至少一个空间光调制器装置(SLM)以及光学系统。该光学系统被设计和设置成在平面中提供波场(IS1、IS2)的分割,其中提供波场的分割的平面与包含物点的平面不同。相邻的分段波场确实具有相互重叠。该装置还包含将光波耦合到具有向外耦合光栅(VG1、VG2)的扩束波导中的扫描装置(SM)。

著录项

  • 公开/公告号CN109154432B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 视瑞尔技术公司;

    申请/专利号CN201780030059.7

  • 发明设计人 杰拉尔德·菲特雷尔;

    申请日2017-03-16

  • 分类号F21V8/00(20060101);G02B27/01(20060101);G02B30/00(20200101);G02B27/42(20060101);

  • 代理机构11278 北京连和连知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈黎明

  • 地址 卢森堡大公国蒙斯拜奇

  • 入库时间 2022-08-23 11:39:37

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