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用于高分子材料表面改性的辉光等离子体生成装置

摘要

本发明提供了一种用于高分子材料表面改性的辉光等离子体生成装置。包括:高频高压电源、高压电极、绝缘介质、金属网电极和改性材料。高压电极通过引线与高压高频电源相连接,金属网电极通过引线与接地端相连,绝缘介质设置在高压电极、金属网电极之间,改性材料放置于金属网电极的表面,高压电极与绝缘介质之间、绝缘介质与金属网电极之间、金属网电极与改性材料之间都保持密封接触,当高压高频电源施加的电压达到放电电压后,辉光放电等离子体在放电区域内生成,并作用于改性材料。本发明通过将改性材料与电极直接接触构造了亚毫米级放电间隙,抑制了电子崩的发展程度,从而抑制丝状放电的产生,有利于提高等离子体对材料表面改性的效果。

著录项

  • 公开/公告号CN108882493B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京睿昱达科技有限公司;

    申请/专利号CN201810738883.4

  • 发明设计人 刘文正;祝莉莹;陈晓中;赵潞翔;

    申请日2018-07-06

  • 分类号H05H1/24(20060101);

  • 代理机构11255 北京市商泰律师事务所;

  • 代理人黄晓军

  • 地址 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十四街99号33幢B栋五层510室

  • 入库时间 2022-08-23 11:36:36

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