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微粗糙电解铜箔及铜箔基板

摘要

本发明公开一种微粗糙电解铜箔及铜箔基板。微粗糙电解铜箔包括一微粗糙表面。微粗糙表面具有多个凸峰、多个V型凹槽以及多个微结晶簇。两个相邻的所述凸峰界定出一个V型凹槽。V型凹槽的平均深度小于1微米。微结晶簇位于所述凸峰顶部。微结晶簇的平均高度小于1.5微米。微粗糙电解铜箔的微粗糙表面的Rlr值低于1.06。微粗糙表面与基材之间有良好的接合力,且在高频下的介入损失有良好的表现,能够有效地抑制讯号损耗。

著录项

  • 公开/公告号CN110952117B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 金居开发股份有限公司;

    申请/专利号CN201811132277.4

  • 发明设计人 宋云兴;高羣祐;

    申请日2018-09-27

  • 分类号C25D3/38(20060101);C25D5/18(20060101);C25D7/06(20060101);H05K3/38(20060101);

  • 代理机构72003 隆天知识产权代理有限公司;

  • 代理人向勇

  • 地址 中国台湾台北市

  • 入库时间 2022-08-23 11:34:51

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