用于在真空腔室中成像的设备、用于真空处理基板的系统、和用于使真空腔室中的至少一个对象成像的方法

摘要

本公开内容提供了一种用于在真空腔室中成像的设备。所述设备包括真空腔室，所述真空腔室具有光入口端口和一个或多个光学元件，所述一个或多个光学元件位于所述真空腔室中并且被配置用于将光从所述光入口端口引导到待成像的至少一个对象。