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用于利用支撑结构形成三维存储器件的方法和产生的三维存储器件

摘要

提供了用于形成三维(3D)存储器件的结构和方法的实施例。在一个示例中,3D存储器件包括存储堆叠层、多个沟道结构、缝隙结构和源极结构。所述存储堆叠层可以是位于衬底上的,并且可以包括在横向上在所述存储堆叠层中延伸的交织的多个导体层和多个绝缘层。所述多个沟道结构可以在纵向上贯穿所述存储堆叠层延伸到所述衬底中。所述缝隙结构可以在纵向和横向上在所述存储堆叠层中延伸,并且将所述多个存储单元划分成至少一个存储块。所述缝隙结构可以包括沿所述缝隙结构的侧壁在纵向上布置的多个凸出部分和多个凹陷部分。

著录项

  • 公开/公告号CN110896673B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 长江存储科技有限责任公司;

    申请/专利号CN201980001849.1

  • 申请日2019-08-23

  • 分类号H01L27/11578(20170101);H01L27/11582(20170101);H01L27/11568(20170101);

  • 代理机构11376 北京永新同创知识产权代理有限公司;

  • 代理人张殿慧;刘健

  • 地址 430074 湖北省武汉市东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室

  • 入库时间 2022-08-23 11:32:33

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