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用于叠加测量的形貌相位控制

摘要

本发明提供计量工具及方法,其估计对应于从周期性目标上的光散射产生的不同衍射级的形貌相位的效应,及调整测量条件以改进测量准确度。在成像中,可通过基于对比函数行为的分析选择适当测量条件、改变照明条件(减小光谱宽度及照明NA)、使用偏光目标及/或光学系统、使用多个散焦位置等而减小叠加误差放大。可使用额外测量或额外目标单元在成像或散射测量中执行测量结果的实时校准。

著录项

  • 公开/公告号CN107636538B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 科磊股份有限公司;

    申请/专利号CN201680028226.X

  • 申请日2016-05-19

  • 分类号G03F7/20(20060101);G02B7/38(20060101);G02B27/32(20060101);G06T7/80(20170101);H04N5/232(20060101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人张世俊

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 11:32:13

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