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三维形状计测装置、三维形状计测方法以及非暂时性存储介质

摘要

控制装置假设由摄像装置观测到的观测光是一次反射光和二次反射光的合成光,其中,所述一次反射光是从投影装置投射的光在计测对象物上的计测点处反射而入射到摄像装置的光,所述二次反射光是从投影装置投射的在其它反射面上反射后的光在计测对象物上的计测点处反射而入射到摄像装置的光。控制装置针对观测光的亮度振幅值取得3个以上的采样值,使用这些采样值计算因二次反射光引起的相位误差,使用相位误差对观测光的相位值进行校正,由此计算出校正相位值,根据校正相位值而计算计测对象物上的计测点的三维位置。

著录项

  • 公开/公告号CN110268223B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 欧姆龙株式会社;

    申请/专利号CN201780085657.4

  • 发明设计人 林剑之介;大西康裕;诹访正树;

    申请日2017-11-28

  • 分类号G01B11/25(20060101);G06T7/521(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人欧阳琴;邓毅

  • 地址 日本国京都府京都市

  • 入库时间 2022-08-23 11:31:35

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