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晶片几何系统中的透明膜误差校正图案

摘要

一种系统包含一或多个晶片几何测量工具,所述一或多个晶片几何测量工具经配置以从晶片获得几何测量。所述系统还包含一或多个处理器,所述一或多个处理器与所述一或多个晶片几何测量工具通信。所述一或多个处理器经配置以应用校正模型来校正由所述一或多个晶片几何测量工具获得的所述几何测量。所述校正模型经配置以校正由位于所述晶片上的透明膜引起的测量误差。

著录项

  • 公开/公告号CN110419098B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 科磊股份有限公司;

    申请/专利号CN201880011565.6

  • 发明设计人 海伦·刘;A·曾;

    申请日2018-01-05

  • 分类号H01L21/66(20060101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人刘丽楠

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 11:30:59

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