公开/公告号CN111637868B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-26
原文格式PDF
申请/专利权人 无锡新蓝图测绘技术有限公司;
申请/专利号CN202010548809.3
申请日2020-06-16
分类号G01C9/02(20060101);E02D1/00(20060101);E02D33/00(20060101);
代理机构
代理人
地址 214000 江苏省无锡市新吴区汉江北路171-13号
入库时间 2022-08-23 11:30:26
机译: 带电粒子束光学系统的像差测量仪器,带像差测量仪器的带电粒子束测斜仪以及使用该仪器制造设备的过程
机译: 用测量仪器对基巴克笔进行在线测量,精度高,精度低,响应慢///响应快
机译: 光刻过程中的对准方法和叠加测量方法,测斜仪和叠加测量仪器