首页> 中国专利> 一种抗UV辐照的银纳米线墨水及其配制方法和制备的透明导电薄膜

一种抗UV辐照的银纳米线墨水及其配制方法和制备的透明导电薄膜

摘要

本发明提供了一种抗UV辐照的银纳米线墨水及其配制方法、制备的透明导电薄膜,按照质量百分比计,银纳米线墨水包括如下组分:银纳米线0.1%‑1%;增稠剂1%‑2%;分散剂0.01%‑0.4%;流平剂0.01%‑0.4%;表面活性剂0.01%‑0.4%;抗UV添加剂0.01%‑0.5%;溶剂95.3%‑98.86%。本发明在银纳米线墨水中引入抗UV添加剂,可以明显增强银纳米线墨水制备的透明导电薄膜的抗UV性能。

著录项

  • 公开/公告号CN110364287B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201910735162.2

  • 申请日2019-08-09

  • 分类号H01B1/22(20060101);H01B5/14(20060101);H01B13/00(20060101);

  • 代理机构61200 西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人安彦彦

  • 地址 710077 陕西省西安市高新区锦业一路2号陕西煤业化工集团公司

  • 入库时间 2022-08-23 11:30:21

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