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基于键合转移的超大功率限幅器MMIC及制备方法

摘要

本发明公开了一种基于键合转移的超大功率限幅器MMIC及制备方法,制备方法包括:在Si晶圆片正面刻蚀出PIN台面结构和上电极;在Si圆片正面旋涂粘附剂;将Si晶圆片与临时载片正面相对键合;将Si圆片衬底减薄;在Si晶圆片背面制备下电极;清洗以临时衬底为支撑的PIN结构薄层和已完成外围电路制备的SiC衬底;将以临时衬底为支撑的PIN管薄层和已完成外围电路制备的SiC衬底正面进行键合互连;去除临时衬底;刻蚀隔断PIN台面;将PIN结构与SiC电路互连,得到基于键合转移的超大功率限幅器MMIC。本发明将高性能Si PIN限幅器集成到MMIC中,实现高集成度、大功率的限幅器MMIC。

著录项

  • 公开/公告号CN109300892B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201811024949.X

  • 申请日2018-09-04

  • 分类号H01L27/02(20060101);H01L21/77(20170101);

  • 代理机构32203 南京理工大学专利中心;

  • 代理人陈鹏

  • 地址 210016 江苏省南京市中山东路524号

  • 入库时间 2022-08-23 11:30:11

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