公开/公告号CN110543010B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-19
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院高能物理研究所;
申请/专利号CN201910785071.X
申请日2019-08-23
分类号G02B26/08(20060101);G02B27/00(20060101);
代理机构11200 北京君尚知识产权代理有限公司;
代理人司立彬
地址 100049 北京市丰台区玉泉路19号(乙)
入库时间 2022-08-23 11:29:33
机译: 具有能够获得电光响应的均匀性的大孔径区域的透射型光学图像调制器,一种制造该光学图像调制器的方法和一种包括透射型光学图像调制器的光学设备
机译: 光学调制器,一种制造和操作该光学调制器的方法以及一种包括光调制器的光学装置,该光学装置能够减少门控时间
机译: 一种用于设计和制造一种光学装置的方法,包括基于通过所述方法获得的基于纳米结构的非周期性基质的近场光学调制和光学器件的非周期性纳米结构的光学装置的光学装置