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一种带有插入层的多量子阱发光二极管及其制备方法

摘要

本申请提供了一种带有插入层的多量子阱发光二极管及其制备方法,在多量子阱有源层的阱层和垒层之间加入二维功能材料插入层,其透光性好,且能阻隔外延层生长缺陷,有效避免阱层与垒层之间因生长缺陷造成的电子空穴猝灭,降低电光转换热损耗,同时插入层避免电子溢出,提高载流子注入效率,使发光二极管亮度高,寿命长,电光转换效率高,节能环保。

著录项

  • 公开/公告号CN110085713B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 山西穿越光电科技有限责任公司;

    申请/专利号CN201910478633.6

  • 发明设计人 刘卫东;肖凯香;普丹丹;赵伟;

    申请日2019-06-03

  • 分类号H01L33/06(20100101);H01L33/00(20100101);

  • 代理机构11777 北京艾皮专利代理有限公司;

  • 代理人冯铁惠

  • 地址 044500 山西省运城市永济市城东街道循环经济产业园区

  • 入库时间 2022-08-23 11:29:32

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