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一种超薄膜光学常数快速测量方法

摘要

本发明属于超薄膜光学性质测量表征研究领域,并具体公开了一种超薄膜光学常数快速测量方法,其包括如下步骤:S1利用照射至待测超薄膜光源的p光幅值反射系数rp和s光幅值反射系数rs表达超薄膜材料的幅值反射系数比S2对以2πdf/λ为变量在df=0处进行二阶泰勒展开获得二阶近似形式;S3对二阶近似形式进行合并简化及替换处理将其转化为一元四次方程;S4对一元四次方程进行求解获得超薄膜材料光学常数的多个解,并通过条件判断获得正解,以此完成超薄膜光学常数的快速测量。本发明可实现超薄膜光学常数的快速测量,具有测量快速、测量准确等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN110118754B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN201910315604.8

  • 申请日2019-04-19

  • 分类号G01N21/55(20140101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人张彩锦;曹葆青

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 11:27:10

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