制造高密度图案化介质上的伺服图案的装置、方法和系统

摘要

本发明公开一种利用“圆点掩模”法制造高密度图案化介质上的伺服图案的装置、系统和方法。该装置可包括具有通过常规光刻工艺生成的多个开口的沉积掩模。材料可以穿过该沉积掩模开口从以独特沉积角取向的至少一个沉积源沉积到衬底上。以此方式，每个开口可以对应于多个沉积位置。开口可以形成精确的尺寸且被定位从而从所得沉积位置产生伺服图案特征。该沉积掩模还可以包括适用于引导材料到所述衬底上的多个沉积位置的多个位图案开口，所述沉积位置与所述伺服图案的形成同时地形成位图案。