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处理颗粒的方法、相关装置和颗粒

摘要

本发明公开了对小颗粒进行等离子体处理,所述小颗粒例如为碳纳米管。技术目标是实现可控制的处理程度,其在处理的这些颗粒中相当地均匀。所提出的方法使用了旋转处理鼓(4)中产生的低压等离子体(辉光放电)。鼓(4)具有轴向电极(3)、内部叶片(44)以及可密封的罩或盖子(5)。它可以经具有颗粒保留过滤器的端口(52)排空。处理气体可以输送给它以维持等离子体,例如,通过中心电极(3)中的进料口(32)。可以提供外部电极,其作为分离的外罩(8)或作为鼓(4)的导电外筒壁。沿中心电极产生辉光放电,并且调整鼓的旋转速度以使颗粒穿过等离子体区落下。鼓(4)还可具有端口(51),可通过它引入流体以安全地散布颗粒。

著录项

  • 公开/公告号CN105148817B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 黑达勒石墨工业公共有限公司;

    申请/专利号CN201510481612.1

  • 发明设计人 I·瓦尔特斯;

    申请日2010-06-09

  • 分类号B01J19/08(20060101);

  • 代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;

  • 代理人王会卿

  • 地址 英国威尔士

  • 入库时间 2022-08-23 11:25:51

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