用于使磁场均匀化的均匀化装置

摘要

本发明涉及一种用于使磁场均匀化的均匀化装置(1)，其带有非磁性的支架(2)和由磁性材料构成的平衡元件(3)，其中，支架(2)具有支架壁部(4)且支架壁部(4)包围支架内腔(5)，其中，在布置在磁场中的均匀化装置(1)中磁场通过支架壁部(4)的第一支架区域(6)侵入支架内腔(5)中而通过支架壁部(4)的第二支架区域(7)从支架内腔(5)挤出，并且布置在支架(2)处的平衡元件(3)中的每个至少在支架内腔(5)中有助于磁场的均匀化。在根据本发明的均匀化装置(1)中，在均匀化期间操作被改善，亦即因为，在支架壁部(4)中设置有凹口(8)且在凹口(8)中的每个中可直接插入和取出平衡元件(3)中的至少一个。