公开/公告号CN110379938B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-04
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;
申请/专利号CN201910681958.4
申请日2019-07-26
分类号H01L51/52(20060101);H01L51/56(20060101);
代理机构22214 长春众邦菁华知识产权代理有限公司;
代理人尹庆娟
地址 130033 吉林省长春市东南湖大路3888号
入库时间 2022-08-23 11:24:22
机译: 该化合物,该化合物的制备方法,用于保护对紫外线辐射敏感的材料的组合物,至少一种化合物的用途。一种对紫外线和/或太阳辐射敏感的材料的保护方法以及物质的组成
机译: 一种有机-无机混合技术用于压印光刻的微腔制备方法
机译: 一种非对称取代的膦烷催化剂及其制备方法