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可提高Q值的空腔薄膜体声波谐振器及其制备方法

摘要

本发明提供了一种可提高Q值的空腔薄膜体声波谐振器及其制备方法。本发明提供的可提高Q值的空腔薄膜体声波谐振器,其特征在于,包括:衬底,中部具有向上开口的凹槽;SiC/Diamond薄膜层,形成在衬底上,中部设有与凹槽对应的贯穿口;以及压电震荡堆部,形成在SiC/Diamond薄膜层上,并且位于贯穿口的正上方,从下至上依次包括:底电极、压电层、和顶电极。本发明利用SiC/Diamond薄膜层声波传播速率快、硬度高的特点,可以很好的抑制压电薄膜中产生的横向振动模式的声波,并且可以减小软质衬底引入的机械阻尼,减少声波能量损耗,降低薄膜体声波谐振器的插入损耗,获得高的Q值和机电耦合系数。

著录项

  • 公开/公告号CN109474252B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN201811271504.1

  • 申请日2018-10-29

  • 分类号H03H3/02(20060101);H03H3/04(20060101);

  • 代理机构42222 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人俞琳娟

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学

  • 入库时间 2022-08-23 11:23:48

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