用于半导体加工的使用交流驱动的多路复用加热器阵列

摘要

一种用于半导体等离子体加工装置中的衬底支撑组件的加热板，包括布置在可扩展的多路复用布局中的多个可独立控制的平面加热器区以及独立控制所述平面加热器区并给其独立供电的电气设备。并入加热板的衬底支撑组件包括静电夹紧电极和温控基板。用于制造加热板的方法包括将具有平面加热器区、分支传输线、公共传输线和通孔的陶瓷或聚合物片材粘合在一起。加热板能通过交流电或直流相变功率驱动，这样的优点是使衬底支撑组件上方的直流磁场效应最小并且减小直流磁场引起的等离子体不均匀性。