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一种电光调制器、电光调制器的调制方法及制备方法

摘要

本发明公开了一种电光调制器、电光调制器的调制方法及制备方法,其中,一种电光调制器,包括:衬底层1;夹层结构层,位于所述衬底层1上,所述夹层结构层自下而上依次包括第一石墨烯层2、硅层3和第二石墨烯层4;包层5,位于所述夹层结构层上;纳米线6,内嵌于所述包层5,且所述纳米线6与所述夹层结构之间有间隙。本发明根据在所述电光调制器的第二石墨烯层4和包层5的连接处外加电压得到光传播长度,通过所述光传播长度与所述电光调制器的长度关系进行输出调制,即通过控制所述外加电压实现最终的调制,使得其调制深度接近于100%。

著录项

  • 公开/公告号CN110161724B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201910267102.2

  • 申请日2019-04-03

  • 分类号G02F1/03(20060101);

  • 代理机构61230 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张捷

  • 地址 710071 陕西省西安市太白南路2号

  • 入库时间 2022-08-23 11:21:52

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