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微纳米结构光学元件及其制备方法与应用

摘要

本发明提供一种微纳米结构光学元件及其制备方法与应用,该微纳米结构光学元件的特征是在透明刚性基底上形成倒锥形微纳米结构阵列,该微纳米结构光学元件不仅具有宽光谱广角减反射特性,还具有更高的机械强度。该微纳米结构光学元件还可与一层或多层不同光学折射率的材料结合,实现对入射光选择性的宽光谱广角减反射效果。本发明结合三维纳米结构的渐变折射率,倒锥形结构的机械稳定性,以及光学镀膜的光谱调控,可获得选择性的宽光谱广角减反射并具有更高机械强度的光学元件。本发明获得的新型光学元件在照明、显示、热电、光催化、光伏等领域具有广阔的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN108241185B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州纳邦光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201611217866.3

  • 发明设计人 林引岳;楼成飞;张培俊;葛勤;

    申请日2016-12-26

  • 分类号G02B1/118(20150101);B82Y40/00(20110101);B82Y30/00(20110101);

  • 代理机构31219 上海光华专利事务所(普通合伙);

  • 代理人罗泳文

  • 地址 215000 江苏省苏州市苏州工业园区星湖街218号生物纳米园A4楼109A室

  • 入库时间 2022-08-23 11:21:37

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