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一种具有高饱和度结构色的多孔氧化铝光子晶体薄膜的制备方法

摘要

本发明为一种具有高饱和度结构色的多孔氧化铝光子晶体薄膜的制备方法。该方法包括以下步骤:高纯铝片经过退火、抛光、洗涤后作为阳极,以石墨为阴极,浸入到草酸溶液中,采用恒电位正弦脉冲进行第一次阳极氧化制备光子晶体。洗涤后放入草酸溶液中,使用直流稳压电源提供的大电压进行第二次阳极氧化,得到具有高饱和度结构色的阳极氧化铝光子晶体模板。本发明无需去除铝基底,也无需在氧化铝薄膜中沉积其它材料就能观察到饱和度较高的结构色,进一步拓展了光子晶体结构色在彩显、防伪、装饰等领域的应用。

著录项

  • 公开/公告号CN109989086B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 河北工业大学;

    申请/专利号CN201910315473.3

  • 申请日2019-04-19

  • 分类号C25D11/12(20060101);C25D11/10(20060101);

  • 代理机构12210 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人赵凤英

  • 地址 300130 天津市红桥区丁字沽光荣道8号河北工业大学东院330#

  • 入库时间 2022-08-23 11:20:23

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