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包括纳米线或2D材料带的集成电路部件的设计工具

摘要

集成电路设计工具包括单元库。单元库包括用于多个单元的实体,单元库中的实体包括计算机可执行语言的特定单元的规格。单元库中的至少一个实体可以包括具有多个晶体管的存储单元的物理结构和定时参数的规范,多个晶体管中的至少一些晶体管具有包括一个或多个纳米线或2D材料带的相应集合的沟道,并且其中多个晶体管中的一个晶体管的沟道具有的纳米线或2D材料带的数量不同于多个晶体管中的另一晶体管的沟道具有的纳米线或2D材料带的数量。描述了包括存储单元的集成电路。

著录项

  • 公开/公告号CN106575600B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 美商新思科技有限公司;

    申请/专利号CN201580044071.4

  • 发明设计人 V·莫洛兹;J·卡瓦;

    申请日2015-06-23

  • 分类号H01L21/00(20060101);H01L29/78(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华;张昊

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 11:18:22

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