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一种适用于微纳尺寸钛酸钡薄膜的转移印刷方法

摘要

本发明公开了一种适用于微纳尺寸钛酸钡薄膜的转移印刷方法。主要步骤为:在钛酸锶(STO)基底上生长一层锰酸锶镧(LSMO)薄膜,再生长一层钛酸钡(BTO)薄膜。在上述BTO表面通过光刻得到BTO薄膜图形,再刻蚀掉LSMO层和BTO层,得到BTO‑LSMO柱,用光刻胶光刻后显影,腐蚀液腐蚀掉中间LSMO层,形成四方凳子型BTO‑光刻胶复合结构;取一块目标底片,光刻形成上述BTO薄膜相对应的图形,刻蚀硅片形成硅柱,旋PDMS溶液之后固化,制成PDMS印章;用PDMS印章从BTO‑光刻胶复合结构上撕下并转印到旋涂有苯并环丁烯(BCB)的目标底片上,得到贴在目标底片上的BTO薄膜,完成转移印刷。

著录项

  • 公开/公告号CN108682617B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南师范大学;

    申请/专利号CN201810495932.6

  • 发明设计人 任宇轩;彭超;刘柳;

    申请日2018-05-22

  • 分类号H01L21/02(20060101);

  • 代理机构44245 广州市华学知识产权代理有限公司;

  • 代理人雷月华

  • 地址 510006 广东省广州市番禺区外环西路378号华南师范大学华南先进光电子研究院

  • 入库时间 2022-08-23 11:17:13

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