首页> 中国专利> 一种基于超表面阵列结构实现迂回相位编码复用的方法

一种基于超表面阵列结构实现迂回相位编码复用的方法

摘要

本发明公开了一种基于超表面阵列结构实现迂回相位编码复用的方法,该方法包括以下步骤:步骤1、优化设计可等效为微型起偏器的纳米砖单元结构;步骤2、纳米砖单元结构对应的透过率编码;步骤3、设计抽样单元实现复振幅调制;步骤4、复振幅全息复用设计;步骤5、生成透过率编码信息,求出包含四种方向角信息的方向角矩阵;步骤6、将纳米砖单元结构等间隔排列,构成超表面阵列结构。本发明提供的迂回相位编码复用设计方法简单、设计灵活、易于操作,可以实现复振幅全息,并且通过改变入射线偏振光的偏振状态可以产生两个完全不同的全息片,实现复振幅全息复用;超表面阵列结构的结构简单、体积小、重量轻、结构紧凑,具有极大的产业化前景。

著录项

  • 公开/公告号CN110647024B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN201911043883.3

  • 申请日2019-10-30

  • 分类号G03H1/26(20060101);

  • 代理机构42102 湖北武汉永嘉专利代理有限公司;

  • 代理人刘琰

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌区八一路299号

  • 入库时间 2022-08-23 11:16:33

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号