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一种基于单晶二维材料/单晶铜的垂直异质外延单晶金属薄膜的方法

摘要

本发明提供了一种基于单晶二维材料/单晶铜的垂直异质外延单晶金属薄膜的方法。所述单晶二维材料为单晶石墨烯或单晶氮化硼,所述方法为用单晶二维材料/单晶铜的复合结构为外延基底,在其上外延生长金属,获得单晶金属薄膜。所述金属包括但不限于金、银、铜、铂、钯、钨、铁、铬、钴、镍。本发明提出的方法,解决了单晶金属薄膜制备方法复杂、尺寸小、难剥离、价格极为昂贵的问题,通过非常简单的方法,实现了大尺寸的单晶金属薄膜的制备。

著录项

  • 公开/公告号CN110616454B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京大学;

    申请/专利号CN201910171877.X

  • 发明设计人 刘开辉;张智宏;王恩哥;俞大鹏;

    申请日2019-03-07

  • 分类号C30B1/02(20060101);C30B29/02(20060101);C30B29/40(20060101);C30B25/18(20060101);C30B23/02(20060101);

  • 代理机构11360 北京万象新悦知识产权代理有限公司;

  • 代理人苏爱华

  • 地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号

  • 入库时间 2022-08-23 11:16:27

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