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带干涉仪的防止等离子体进入内部的气体喷嘴及其工作方法

摘要

本发明公开一种防止等离子体进入内部的气体喷嘴,该气体喷嘴包含:气体喷嘴本体;喷气孔,其设置于气体喷嘴本体,气路连通反应腔与反应气体源;喷气孔的深宽比大于等于10:1。本发明加厚气体喷嘴底部设有喷气孔的部分,使喷气孔的深宽比大于等于10:1,进而阻碍等离子体进入到气体喷嘴内部的空间,避免反应腔内的等离子体从气体喷嘴的开口处倒进入喷嘴或者未被电离的气体分子倒进入喷嘴内部然后被点燃,进而造成材料表面被轰击大颗粒掉在硅片表面产生缺陷;同时保证了孔径大小和透光率大于35%。

著录项

  • 公开/公告号CN108257838B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中微半导体设备(上海)股份有限公司;

    申请/专利号CN201611244155.5

  • 发明设计人 左涛涛;张洁;万磊;

    申请日2016-12-29

  • 分类号H01J37/32(20060101);

  • 代理机构31249 上海信好专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人周乃鑫

  • 地址 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号

  • 入库时间 2022-08-23 11:15:41

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