首页> 中国专利> 一种垂直腔半导体光放大器,光放大系统及制备方法

一种垂直腔半导体光放大器,光放大系统及制备方法

摘要

本发明公开了一种本发明所提供的一种垂直腔半导体光放大器,包括顶热沉、底热沉和至少两个光放大芯片;顶热沉和底热沉沿厚度方向相对设置,光放大芯片位于顶热沉和底热沉之间,至少两个光放大芯片沿厚度方向堆叠以固定连接;光放大芯片包括有源区,与底热沉相接触的光放大芯片为第一芯片,第一芯片还包括底腔镜;与顶热沉相接触的光放大芯片为第二芯片,第二芯片还包括顶腔镜。由于谐振腔的长度是由多个光放大芯片的厚度决定,使得该谐振腔的长度可以较长,从而当光线在谐振腔内振荡时可以有效减少谐振腔内光功率体密度,使得垂直腔半导体光放大器具有更高的光功率安全阈值。本发明还提供了一种光放大系统及制备方法,同样具有上述有益效果。

著录项

  • 公开/公告号CN110265874B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201910562970.3

  • 发明设计人 张星;吴昊;张建伟;

    申请日2019-06-26

  • 分类号H01S5/187(20060101);H01S5/183(20060101);H01S5/024(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人王云晓

  • 地址 130000 吉林省长春市北湖科技开发区明溪路1759号E305室

  • 入库时间 2022-08-23 11:15:33

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号