首页> 中国专利> 形成氧化石墨烯-还原氧化石墨烯结的方法

形成氧化石墨烯-还原氧化石墨烯结的方法

摘要

一种方法包括:沉积步骤,包括沉积氧化石墨烯层;沉积步骤,包括将沉积的氧化石墨烯层的区域选择性地暴露于电磁辐射以形成与相邻的未暴露的氧化石墨烯区域邻近的还原氧化石墨烯区域,氧化石墨烯区域和邻近的还原氧化石墨烯区域在它们之间形成结,以产生氧化石墨烯‑还原氧石墨烯结层;以及针对在下方氧化石墨烯‑还原氧化石墨烯结层之上的一个或多个另外的相应氧化石墨烯层来重复沉积步骤和暴露步骤以产生一种装置,在该装置中氧化石墨烯‑还原氧化石墨烯层的相应结当一起被考虑时在第三维度中延伸。

著录项

  • 公开/公告号CN107112216B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 诺基亚技术有限公司;

    申请/专利号CN201580058942.8

  • 发明设计人 魏迪;M·艾伦;

    申请日2015-10-21

  • 分类号H01L21/263(20060101);H01M4/04(20060101);H01M6/40(20060101);H01M10/36(20100101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人酆迅;张曦

  • 地址 芬兰埃斯波

  • 入库时间 2022-08-23 11:14:03

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号