用于纳米银导电膜的蚀刻液及图案化纳米银导电膜的制备方法

摘要

本发明提供了一种用于纳米银导电膜的蚀刻液，包括：蚀刻剂1‑30份、溶剂70‑90份、添加剂0‑10份，所述蚀刻剂为常温下对银不具备直接氧化性且能与银离子络合的蚀刻剂；因此蚀刻液只是将蚀刻区的导电网络切断，并非大面积蚀刻掉，降低蚀刻痕的同时使得刻蚀区域的纳米银导电膜的导电作用消失，蚀刻区与非蚀刻区的形貌差异较小，从而光学特性基本一致。