公开/公告号CN106647188B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-09-04
原文格式PDF
申请/专利权人 江苏影速集成电路装备股份有限公司;
申请/专利号CN201710032482.2
发明设计人 傅志伟;
申请日2017-01-16
分类号G03F7/20(20060101);G03F9/00(20060101);
代理机构23211 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司;
代理人彭素琴
地址 221000 江苏省徐州市邳州市恒山路西侧
入库时间 2022-08-23 11:12:31
机译: 双面曝光设备和双面曝光设备中的掩模和工件对准方法
机译: 用于将两个光掩模彼此对准的方法和装置,以及在未曝光的印刷电路板上对准的方法和装置,该方法和装置用于空白并且用于随后在生产双面印刷电路板的同时进行曝光
机译: 双面曝光装置的掩模对准方法和掩模对准装置