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导电胶滴下系统及导电胶滴下方法

摘要

本发明提供一种导电胶滴下系统及导电胶滴下方法。本发明的导电胶滴下系统在滴头上套设感应线圈,并设置与感应线圈电性连接的处理单元,感应线圈位于滴头设有导电胶通道的出口的一端的外侧,处理单元对感应线圈进行通电使其产生磁场,当有导电胶从滴头的导电胶通道的出口滴下时引起磁场变化,导致感应线圈上的电流变化,此时处理单元获取滴头的位置坐标,当该位置坐标为预设的指定坐标时,判定滴头进行正常的滴下操作,否则判定滴头发生滴下异常,以便于进行报警,能够有效地对导电胶滴下的位置进行监控。

著录项

  • 公开/公告号CN109799633B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201910221646.5

  • 发明设计人 陈基松;

    申请日2019-03-21

  • 分类号G02F1/13(20060101);

  • 代理机构44265 深圳市德力知识产权代理事务所;

  • 代理人林才桂;鞠骁

  • 地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

  • 入库时间 2022-08-23 11:12:20

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