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静磁场均匀度调整方法、静磁场均匀度调整装置以及计算机

摘要

为了提供一种能够在磁场均匀度调整中减少磁性体片的配置量,且能够高精度地达成期望的磁场均匀度的静磁场均匀度调整方法,对于通过磁场产生装置产生的摄像空间中的静磁场,通过匀场计算来计算多个磁性体片从所述摄像空间离开的位置,将所述多个磁性体片配置在通过该匀场计算得到的位置,从而调整所述摄像空间中的静磁场均匀度,该方法的特征在于,包括:调整步骤,在所述匀场计算时,施加使配置于所述位置的所述磁性体片在所述摄像空间生成的磁场分布的极性为正负中的任一者这样的制约,来调整所述静磁场均匀度。

著录项

  • 公开/公告号CN107205687B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立制作所;

    申请/专利号CN201680004608.9

  • 申请日2016-02-10

  • 分类号A61B5/055(20060101);G01R33/3873(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人刘慧群

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 11:12:01

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