公开/公告号CN107205687B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-09-01
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社日立制作所;
申请/专利号CN201680004608.9
申请日2016-02-10
分类号A61B5/055(20060101);G01R33/3873(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人刘慧群
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 11:12:01
机译: 磁共振成像系统,静磁场均匀度调整系统,磁场均匀度调整方法以及磁场均匀度调整程序
机译: 静磁场均匀度调整方法,磁共振成像用静磁场发生器,磁场调整系统,程序
机译: 静磁场均匀度调整方法,用于磁共振成像的静磁场发生器,磁场调整系统,程序