一种膜层厚度均一性调整方法及其调整装置

摘要

本发明实施例提供一种膜层厚度均一性调整方法及其调整装置，涉及线性蒸镀技术领域，能够解决现有蒸镀的膜层厚度均一性超出规格时，由于采用随机调整喷嘴的孔径以及反射板数量的方式来调整膜层厚度的均一性而导致的调整效率较低，严重影响量产的问题。所述方法包括：获取膜层在多个测量点处的膜厚测量值；根据多个膜厚测量值获取膜层的坡度斜率参数和水平均一性参数；其中，坡度斜率参数用于表征线性蒸发源的受热均衡情况，水平均一性参数用于表征线性蒸发源的蒸镀口出料均衡情况。本发明用于调整线性蒸发源的膜层厚度均一性。