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辐射能光斑解析模型参数的优化方法

摘要

本发明公开了辐射能光斑解析模型参数的优化方法,包括以下步骤:(1)在定日镜上建立一个虚拟的辐射能密度标量场;(2)通过斜平行投影投影到接收面上,得到最终的辐射能分布结果;(3)定日镜坐标系上虚拟的辐射能密度分布函数;(4)设定全局的衡量指标均方根误差;(5)采用加权的目标函数来优化参数s;(6)使步骤(4)和(5)的指标在预设的要求内最小,求解得到优化后的参数s的值;本发明比已有的解析方法精度都要高并且可以快速的计算,解决以往对定日镜反射的辐射能密度光斑进行模拟的解析模型存在精度模拟精度低、参数难确定的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN109697315B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN201811572293.5

  • 发明设计人 赵豫红;冯结青;何才透;

    申请日2018-12-21

  • 分类号G06F30/20(20200101);G06F111/10(20200101);

  • 代理机构33224 杭州天勤知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐敏

  • 地址 310013 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

  • 入库时间 2022-08-23 11:08:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-04

    授权

    授权

  • 2019-05-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20181221

    实质审查的生效

  • 2019-04-30

    公开

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