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掩膜及其制法、掩膜制造装置、发光材料的成膜方法

摘要

提供一种掩膜及其制造方法、制造装置、发光材料的成膜方法、电光学装置及电子仪器。本发明的掩膜:具备形成了开口的基体材料;形成有多个贯通孔,同时对应于上述开口而与上述基体材料接合的掩膜构件;和以所定间隔保持上述基体材料与上述掩膜构件的隔离子。

著录项

  • 公开/公告号CN100393908C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-06-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 精工爱普生株式会社;

    申请/专利号CN200410007838.X

  • 发明设计人 中楯真;

    申请日2004-03-04

  • 分类号C23C14/04(20060101);C23C14/24(20060101);H05B33/10(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人李香兰

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-08-28

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/04 变更前: 变更后: 登记生效日:20130807 申请日:20040304

    专利申请权、专利权的转移

  • 2008-06-11

    授权

    授权

  • 2004-11-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-09-08

    公开

    公开

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