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具有低击穿电压的瞬态电压抑制器

摘要

一个带有骤回控制和低电压穿通击穿模式的低电容瞬态电压抑制器,包括一个n+型衬底、一个在衬底上的第一外延层、一个形成在第一外延层中的掩埋层、一个在第一外延层上的第二外延层,以及一个形成在掩埋层下方第一外延层中的注入层。注入层在掩埋层上方延伸。第一沟槽位于掩埋层的一边和注入层的一边。第二沟槽位于掩埋层的另一边,并在注入层中延伸。第三沟槽位于注入层的另一边。一组源极区形成在第二外延层的顶面中。注入区形成在第二外延层中,第一注入区位于第一源极区下方。

著录项

  • 公开/公告号CN107017247B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 万国半导体国际有限合伙公司;

    申请/专利号CN201611186103.7

  • 发明设计人 史宁;管灵鹏;马督儿·博德;

    申请日2016-12-21

  • 分类号H01L27/02(20060101);H01L29/06(20060101);H01L21/822(20060101);

  • 代理机构31323 上海元好知识产权代理有限公司;

  • 代理人张静洁;徐雯琼

  • 地址 加拿大安大略省

  • 入库时间 2022-08-23 11:07:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-04

    授权

    授权

  • 2020-05-12

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L27/02 登记生效日:20200423 变更前: 变更后: 申请日:20161221

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-08-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/02 申请日:20161221

    实质审查的生效

  • 2017-08-04

    公开

    公开

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